Valitse maasi tai alueesi.

Samsung DS -divisioona painaa uusia investointeja seuraavan sukupolven puolijohdeteknologioihin

Eteläkorealaisen ETNewsin mukaan Samsung Electronicsin Device Solutions (DS) -divisioona keskustelee suunnitelmista jatkaa tutkimusta ja investointeja seuraavan sukupolven puolijohdeteknologioihin.Uudistetun työntökohteen odotetaan keskittyvän kolmelle edistyneelle alueelle: seuraavan sukupolven NAND-salamaan, yhdistepuolijohteisiin sekä edistyneisiin pakkauksiin ja substraatteihin.Muutos on merkki Samsungin palaamisesta keskipitkän ja pitkän aikavälin teknologian etenemissuunnitelmaan sen jälkeen, kun sen muistiliiketoiminta palasi vakauden.

Keskusteluissa keskitytään T&K-prioriteettien viimeistelyyn ja kiinteistöinvestointien aikataulun asettamiseen, ja niihin liittyviä suunnitelmia tarkennetaan edelleen sisäisesti.Samsung oli aiemmin hidastanut kehitystä joillakin uusilla liiketoiminta-alueilla, koska se asetti etusijalle kilpailukyvyn palauttamisen DRAM- ja HBM-aloilla.Vuoden 2024 toisesta puoliskosta lähtien sen muistiliiketoiminta on kuitenkin jatkanut paranemistaan ​​DRAM-muistin vahvistumisen, HBM-kapasiteetin käyttöasteen nousun ja markkinoiden kysynnän elpymisen tukemana.Samsung vapauttaa nyt sisäisiä resursseja uuden teknologian kehittämiseen, koska sen ydinmuistitoiminnot ovat jälleen vakaammalla pohjalla.

Seuraavan sukupolven NAND-salamassa Samsung keskittyy V10 NAND -kehitykseen tavoitteenaan ylittää 400 kerrosta.Tämä merkitsee merkittävää hyppyä sen nykyisestä massatuotannosta 286-kerroksisesta V9 NAND:sta ja lisäisi kiekkokohtaista tallennuskapasiteettia vastaamaan tekoälyn aikakaudella kasvavaan korkeatiheyksisen tallennustilan kysyntään.Sen jälkeen kun Samsung aloitti V9 NANDin TLC-version massatuotannon huhtikuussa 2024, sen NAND-tuotantotekniikka on kehittynyt vain vähän yli kahden vuoden ajan.V10 NAND -kehityksen uudelleenkäynnistyksen odotetaan auttavan palauttamaan yrityksen flash-teknologian tiekartan.

Seospuolijohteiden alalla Samsung aikoo nopeuttaa galliumnitridin (GaN) ja piikarbidin (SiC) tuotantolinjojen käyttöönottoa.Sen 8 tuuman GaN-linjan on määrä aloittaa toimintansa vuoden 2026 toisella neljänneksellä, kun taas sen SiC-linja on suunnattu massatuotantoon vuonna 2028. Samsung on jo aloittanut toimitusketjunsa rakentamisen ja laitehankintojen valmistelun aikoen investoida 100–200 miljardia KRW ydintyökaluihin, kuten MOCVD-laitteisiin.Aloitteen tavoitteena on vangita mahdollisuuksia sähköajoneuvojen tehopuolijohteissa, energian varastoinnissa ja muilla kasvumarkkinoilla.

Myös pitkälle kehitetyt pakkaus- ja substraattitoiminnot sisältyvät uudistettuun investointisuunnitelmaan.Samsung etenee pakkausteknologian kehittämisessä ja siihen liittyvässä substraattikapasiteetin suunnittelussa tukeakseen HBM- ja logiikkasirujen integrointia ja vahvistaa asemaansa tekoälysirujen pakkauksissa.